Effiziente Multisubband-Bauelementsimulation von nanometrischen Feldeffekttransistoren unter Berücksichtigung von hoch permitiven Dielektrika und III-V Halbleitern

  Geförderte Projekte der DFG

Seit Kurzem werden bei der Herstellung von integrierten Schaltungen aus Silizium sogenannte "Technology Boosters" wie SiGe, uniaxiale Verzerrung, Gateoxide mit hohen dielektrischen Konstanten und metallische Gateelektroden verwendet. Selbst III-V Halbleiter werden aufgrund ihrer exzellenten Elektronenbeweglichkeit als Kanalmaterialien in Erwägung gezogen. Ein Nachteil ist die schlechte Leistung der III-V-PMOSFETs bedingt durch die geringe Löcherbeweglichkeit, die eventuell mit den gleichen Mitteln verbessert werden kann wie die von Silizium. Ziel dieses Projekts ist es, die Entwicklung neuer MOS-Bauelemente durch systematische Untersuchung aller technologischen Optionen durch zuverlässige Simulationen zu unterstützen.

Ein bestehender Simulator, der die 6x6 k.p Schrödinger-, Poisson- und Boltzmann-Gleichung für allgemein verzerrtes Silizium oder SiGe und beliebige Oberflächen- und Kanalorientierungen löst, soll auf den Fall von Gatematerialien mit hohen dielektrischen Konstanten, metallischen Gateelektroden und III-V Halbleitern erweitert werden.

Dies erfordert die Entwicklung von Streumodellen für Gatematerialen mit hoher dielektrischer Konstante und die Erweiterung der 6x6 k.p Schrödinger-Gleichung auf III-V Materialien und N-Bänder.
Die Boltzmann-Gleichung wird mit einem neuen, deterministischen Ansatz gelöst, der effizienter ist als der übliche Monte-Carlo-Algorithmus. Aufbauend auf den neusten Fortschritten bei determistischen Verfahren und einem Newton-Raphson-Ansatz für alle drei Gleichungen soll die Effizienz der Lösungsmethode weiter gesteigert werden. Damit neben dem Transport auch die Hochfrequenzeigenschaften untersucht werden können, soll das Modell auf Kleinsignalanalyse und Rauschen erweitert werden.